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SINOVAC半导体车间真空吸尘系统CVE1510
详细信息| 询价留言加工定制:是 品牌:SINOVAC 林格曼黑度:0级 型号:CVE1510 除尘率:99.993 % 阻力损失:20 Pa 液气比:0:1 出口含尘浓度:0.007 g/Nm3 使用温度范围:26 ℃ 处理风量:2600 m3/h 过滤速度:1200 m/min 使用温度范围:26 ℃ 半导体车间真空吸尘系统
在半导体制造车间(尤其是晶圆制造的核心区域——洁净室),粉尘(更准确地说是空气中的微粒污染物)是头号敌人之一。这些微小颗粒一旦落在精密的硅片上,就可能造成电路短路、开路或参数漂移,导致芯片失效或良率大幅下降。因此,控制粉尘是半导体生产的核心要求之一。
峰泽凯SINOVAC车间吸尘系统
满足洁净度等级要求:半导体制造需要维持极其严格的空气洁净度标准(每立方英尺空气中特定大小颗粒的数量上限)。普通吸尘器在清洁过程中本身就会搅起大量颗粒并释放新颗粒,完全违背洁净室运行原则。
洁净室吸尘器是整个洁净室污染控制策略的一部分,其设计和操作都是为了维持或恢复所需的洁净度等级,而不是破坏它。
收集和处理特殊污染物:
半导体工艺可能产生有害粉尘(如某些金属、化学品残留物)。
洁净室吸尘器可以配备HEPA/ULPA过滤的密封集尘系统,确保有害物质被安全捕获且不外泄,便于集中处理。
半导体车间(洁净室)内存在多种来源的微粒污染,其大小足以对纳米级的电路结构造成致命损伤。为了在清洁维护过程中避免引入新的污染源、防止静电损伤、并确保排出的空气符合甚至优于洁净室标准,必须使用专门设计的无尘室真空吸尘系统。这种系统是半导体制造高良率和可靠性的关键保障设施之一,绝不是普通吸尘器可以替代的。它们是洁净室“清洁工”,但自身必须是“超级洁净”的典范。
我们将为您的车间定制满意的中央吸尘系统! -
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